638nm 웨이브 로테이터 플레이트 90°

638nm 웨이브 로테이터 플레이트 90°는 하프 웨이브 플레이트에 대한 비용 효율적인 대안입니다. 638nm 파장에 대해 편광을 90° 효율적으로 회전시킵니다. 두 개의 빔을 결합하기 위해 편광 빔 스플리터(PBS) 큐브와 함께 사용하면 광학적 특성을 유지하면서 파워 스케일링이 가능합니다.

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제품 설명

638nm 웨이브 로테이터 플레이트 90° 정보

  • 기존 편광 반파 지연기(λ/2 웨이브 플레이트)를 대체하는 비용 효율적이고 정렬하기 쉬운 제품입니다.
  • 편광 결합을 위해 PBS 큐브와 함께 사용 가능
  • V-AR 코팅으로 약 638nm에서 99%(통상) 이상의 전송 가능

반파 편광 회전판은 선형 편광 빔의 편광 축을 설계 파장 근처에서 90도(람다/2) 회전하는 방식으로 작동합니다.

편광 로테이터 플레이트는 파장판 리타더에 비해 훨씬 저렴하고 우수한 대안입니다. 그러나 기존의 하프 웨이브플레이트 리타더와 달리 편광의 회전은 Z축(빛의 전파축)에 대한 광학장치의 각도와 무관합니다. 따라서 하프 웨이브플레이트 리타더로 작업할 때보다 훨씬 간단하게 정렬할 수 있습니다.

소니의 반파 편광 로테이터는 일반적으로 638nm용으로 설계된 편광 빔 스플리터(PBS) 큐브와 함께 빔을 결합하는 데 사용됩니다. 이는 빔 크기나 빔 발산의 증가로 인한 에텐듀 손실 없이 광학 시스템에서 전력을 효과적으로 두 배로 늘릴 수 있는 비용 효율적인 수단입니다.

설계 파장은 638nm이지만 이 제품은 효율 손실을 최소화하면서 620~660nm 범위에서 사용할 수 있습니다. 이 편광 회전판은 공칭 두께가 5mm인 10 x 10mm 크기이므로 "나이프 에지"로 인접한 대형 또는 다중 빔에 적합합니다.

옵트론 레이저는 455nm 및 525nm 파장용 반파 편광 회전판과 455nm, 525nm 및 638nm 파장용 PBS 큐브도 제공합니다.

638nm 파장 회전판 90°에 대하여

638nm 편광 회전판 90°는 편광 반파판에 대한 비용 효율적인 대안을 제공합니다. 이 제품은 638nm 파장을 위해 편광 축을 90°(반파)로 효율적으로 회전시킵니다. 일반적으로 편광 빔 스플리터(PBS) 큐브와 함께 사용하여 동일한 파장에서 시준된 빔을 결합하여 빔의 광학적 특성을 유지하면서 파워 스케일링을 가능하게 합니다. 기존의 하프 웨이브플레이트 리타더와 달리 편광의 회전이 Z축(빛의 전파 축)을 중심으로 회전기의 각도와 무관하므로 정렬이 간단합니다.

설계 파장은 638nm이지만, 이 제품은 620nm~660nm의 넓은 범위에서 효율 손실을 최소화합니다. 회전판의 크기는 15 x 15mm로 "나이프 에지"로 인접한 대형 또는 다중 빔에 적합합니다.

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