Kollimator 520 nm
Diese montierte Triplet-Linse kann zum variablen Fokussieren oder Kollimieren von 520 nm Laserstrahlung verwendet werden und reduziert Abbildungsfehler aufgrund des Triplet-Designs (drei Elemente). Ihre vergleichsweise lange effektive Brennweite (EFL) von 8 mm ermöglicht es, den Laserstrahl auf einen kleinen Punkt zu fokussieren.
Produktbeschreibung
Über den Kollimator 520 nm
Diese hochauflösende 520 nm Kollimatorlinse mit Triplet-Design (drei Elemente) ermöglicht präzises und variables Fokussieren sowie Kollimieren von Laserstrahlung bei reduzierten Abbildungsfehlern. Die vergleichsweise lange effektive Brennweite (EFL) von 8 mm erlaubt es, den Laserstrahl auf einen kleinen Punkt zu fokussieren.
Durch den Einsatz eines Gummidichtrings (O-Ring) und eines M9 x 0,5 mm Gewindes können Anwender die Brennpunktgröße oder den Arbeitsabstand mit hoher Präzision feinjustieren. Die Linse verfügt über eine hocheffiziente Antireflexionsbeschichtung (AR), die für die Wellenlänge 520 nm auf allen sechs Linsenflächen optimiert ist und eine hohe Lichtdurchlässigkeit gewährleistet.
Mit ihrer langen Brennweite ist diese Linse ideal, um hochauflösende Gravurergebnisse zu erreichen.