Линза для гравировки высокого разрешения
Эта монтируемая триплетная линза может использоваться для переменной фокусировки или коллимации лазерного излучения с уменьшенной аберрацией благодаря триплетной (трехэлементной) конструкции. Относительно большое эффективное фокусное расстояние (EFL) 8 мм позволяет фокусировать лазерное излучение на небольшом пятне.
Описание продукта
О гравировальном объективе высокого разрешения
Монтируемый триплетный объектив высокого разрешения имеет относительно большое эффективное фокусное расстояние (EFL) 8 мм, что позволяет ему фокусировать лазерное излучение на небольшом пятне. На все 6 поверхностей линзы нанесено антибликовое покрытие (AR) с центром на 450 нм. Обычно его предпочитают для гравировки тонких линий, резки более толстого материала из-за уменьшения конвергенции и дивергенции, или когда необходимо большое расстояние между лазерной головкой и плоскостью гравируемого объекта.
Предлагаемое расстояние фокусировки: 25 - 100 мм
- Легкая точная настройка размера фокусного пятна или рабочего расстояния благодаря резиновому кольцу круглого сечения и резьбе M9 x 0,5 мм
- Высокоэффективное антибликовое (AR) покрытие 450 нм на всех 6 поверхностях линз обеспечивает высокую светопропускаемость
- Большое фокусное расстояние позволяет выполнять гравировку с высоким разрешением
- Сменная фокусирующая линза для всех лазерных головок серии PLH3D
Примечание для гравировки:
Эта линза входит в комплект поставки всех наших лазерных граверов серии PLH3D и совместима с нашим аксессуаром для регулировки фокуса линзы. Переднюю поверхность линзы легко очистить, если она загрязнилась во время гравировки, для этого можно использовать изопропиловый спирт (IPA) и оптическую салфетку. Однако в некоторых случаях может потребоваться замена линзы. Рекомендуется приобретать дополнительную линзу к лазерным головкам серии PLH3D, если они будут использоваться в среде, где образуется пыль, дым или масло.